日本日立熱場式場發(fā)射掃描電鏡SU5000概述

日立高新技術公司(以下簡稱：日立高新)8月4日開始發(fā)售的肖特基式場發(fā)射

掃描電子顯微鏡”SU5000″，搭載了全新的用戶界面和”EM Wizard”，無論用戶的操作技巧是否嫻熟都可以拍出好的照片。

掃描電子顯微鏡在納米技術領域、材料領域、醫(yī)學生物等領域均被廣泛使用。但隨著近年來儀器性能的大幅提升，以及用戶群體的不斷擴大，使得用戶對不需要任何經驗和技術就能得到好照片的需求迅速擴增。而且，由于觀察對象的樣品的不斷多樣化，對樣品的大小和性質的無制約觀察變得尤為重要。

這次新開發(fā)的”SU5000″對用戶沒有任何操作技巧上的要求，通過”EM Wizard“只要選擇好觀察目的就可以得到好照片。”EM Wizard”以人為本的設計理念使電鏡的操作性大幅上升，對于用戶來說，再也不用去討論該用什么條件進行觀察，只要按照觀察目的選擇”表面細節(jié)觀察“或是”成分分布“等就可以自動將適合的觀察條件設置好。除此之外，使用經驗豐富的操作人員也可以像往常一樣自由的選擇觀察條件，按照自己的操作習慣進行設置。”EM Wizard“對于初學者或者使用經驗尚淺的客戶來說，它du有的操作簡易性和各種學習工具可以幫助您迅速成長起來;對使用經驗豐富的客戶來說，開放了豐富的可設置選項，會令您操作起來更加得心應手。這正是”EM Wizard”的價值所在。

另外”SU5000″的尋找視野功能”3D MultiFinder”更是獨yi無二的。不但可大幅提高做樣速度，更使視野再現(xiàn)性得到大大提高。并且，為了能適應各種分析的需求，最大束流可達到200nA。再加上全新設計的背散射電子探頭和低真空二次電子探頭等，都使該款電鏡無論在是觀察樣品還是分析都具備了*的功能與強大的擴展性。

日立高新在8月3日至8月7日在美國康涅狄格州舉辦的”Microscopy & Microanalysis”，9月3日至9月5日在日本千葉縣幕張國際展覽中心舉辦的”JASIS 2014″，9月7日至9月12日在捷克舉行的”18th International Microscopy Congress”上都做了實機展出。

*：肖特基式場發(fā)射電子顯微鏡：高亮度、大束流、*穩(wěn)定性匯聚一身肖特基式場發(fā)射電子顯微鏡。分辨率高和可做各種定量定性分析。

肖特基式場發(fā)射電子顯微鏡”SU5000″                            “EM Wizard”畫面樣式

日本日立熱場式場發(fā)射掃描電鏡SU5000特點

高性能電子光學系統(tǒng)
★ 二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)*
★ 高靈敏度: 高效PD-BSD, *的低加速電壓性能，低至100 V成像
★ 大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析
性能優(yōu)異
★ 壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測器(UVD)*
★ 開倉室快速簡單換樣(樶大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
★ 微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
★ *：選配附件